นาโนชีลด์

http://www.nanoshield-pvd.com/

    PVD (Physical Vapour Deposition) คือ การตกตะกอนของไอสสาร ที่ได้มาโดยวิธีการทางฟิสิกส์ เป็นเทคโนโลยีทางด้านวิศวกรรมผิววัสดุ เพื่อสังเคราะห์ฟิล์มบาง สำหรับการใช้งานต่างๆ เช่นงานด้าน tribology (การสึกหรอ, แรงเสียดทาน และการหล่อลื่น), งานด้าน optics, เทคโนโลยี microchips, เทคโนโลยี hard disk drive ฯลฯ 

    การชุบเคลือบจะกระทำกันในเตาสุญญากาศสูง สารตั้งต้นจะถูกกระทำให้เป็นไอ ในระบบสุญญากาศ โดยวิธีต่างๆทางฟิสิกส์ แล้วไอสสารนั้น ซึ่งมีได้ทั้ง atom, ion ฯลฯ จะตกตะกอนลงบนพื้นผิวที่ต้องการ ทั้งในแบบเกิดปฏิกิริยา (reactive deposition) และไม่เกิดปฏิกิริยา (non reactive deposition) เพื่อสร้างสารเคลือบต่างๆ ตามความต้องการของผู้ใช้งาน  

    ระบบ PVD นั้น มีได้หลากหลาย แตกต่างกันตามวิธีที่ทำให้ได้มาซึ่งไอสสารนั้น เช่น Cathodic Arc, Magnetron Sputtering, Electron Beam, Hollow Cathode Discharge ฯลฯ
ซึ่งแต่ละระบบ ต่างก็มีข้อดีและข้อเสียต่างกันไป จึงต้องเลือกใช้ให้เหมาะสมกับงาน

    Cathodic Arc Plasma Deposition ซึ่งเป็นระบบที่สามารถผลิต ion ของโลหะได้สูงที่สุด ได้รับการยอมรับ ว่าดีที่สุดสำหรับการชุบงานเพื่อต้านทานการสึกหรอ เช่นงาน tooling ไปจนถึงชิ้นส่วนในเครื่องยนตร์ เครื่องจักรต่างๆ ฯลฯ 

    ระบบนี้ ได้ถูกพัฒนาขึ้นมาในสหภาพโซเวียต ในช่วงสงครามเย็น เพื่อใช้ในทางการทหาร  เทคโนโลยีอวกาศ และเทคโนโลยีนิวเคลียร์ 

    และด้วยประสิทธิภาพอันเหนือชั้นของระบบนี้  ทำให้สหภาพโซเวียตล้ำหน้าตะวันตก ไปในยุคทศวรรษที่ 70 ในการใช้งาน PVD ทางอุตสาหกรรม เพื่อต้านทานการสึกหรอ 

    จนกระทั่ง โลกตะวันตกต้องยอมรับ และซื้อเทคโนโลยีจากรัสเซีย มาใช้ในงานด้านนี้อยู่ จนปัจจุบันนี้ กล่าวคือ ระบบ Cathodic Arc Plasma Deposition คือเบื้องหลังความสำเร็จของ บริษัทที่ให้บริการด้านวิศวกรรมผิววัสดุ เพื่อต้านทานการสึกหรอ แทบทุกแห่งในยุโรป, อเมริกา และญี่ปุ่น   

Please click here to view pages in  English